我司作品入选“TAMGA第九届俄罗斯国际商标双年展”

2013-3-26 14:33:46 YVB

 

201302月,我司设计师商标设计作品入选“TAMGA2012第九届俄罗斯国际商标标志双年展”;

原文详见:http://www.tamga.biz/index.php?lang=eng&content=51

 

2012第九届俄罗斯国际商标标志双年展。成立于2001年,是ICOGRADA国际平面设计协会认可的国际性标志展览赛事。从2006年起,每两年举办一届,2012年举办第九届,成为国际重要的标志设计展览。本届标志双年展收到全球27个国家1724件作品(含学生组)最终人选150件作品(含学生组)。

 

List of papers selected for the final part of the Biennale, in the category Professionals. 

China
 
Benny Lin
 
Chong
 
Che Che
 
Dean Chen
David&Abner Wu
 
Feng Liu
 
Green Kun
Haiping Li
Joseph_Chan
Lion Cha
Lizhongyang
Min Su
 
Ping Su
Qianhao
Susu
 
Tanhuang
Wu Qixin
West Chen
 
Xiaoyong Miao
 
Xiaoliang Lam
 
Yulian Zhang
Ye Feng
 
Yangdongdong
Zhang Tong
 

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